תיאור קצר

מוצר זה הוא MDI שונה שיש לו פונקציונליות גבוהה יותר. כרכיב איזוציאנאט, הוא נמצא בשימוש נרחב לייצור קצף חוסן גבוה, קצף עור אינטגרלי, אלסטומר פוליאוריטן מיקרו -תאי (MPUE), קצף זיכרון וחומר אחר קצף PU.

יישומים

החלים על קצף HR, קצף זיכרון, MPUE, קצף עור אינטגרלי ושדות אחרים.

מאפיינים

בהשוואה למערכת T/M Lsocyanate, יש לה ריח נמוך יותר, מאפיין מכני מעולה, דרישה נמוכה יותר של טמפרטורת העובש ותכונות מיוחדות אחרות.